[文]塑料真空鍍膜設備的發展非常快。隨著生產率的提高，生產成本大大降低，為真空鍍膜產品的廣泛應用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機為例，顯影時可鍍的薄膜基材為0mm，現已達到2253mm。基材輥的最大輥直徑為1000mm，最大卷繞速度為750m / min。具有自動上下料的半連續卷繞真空鍍膜機占總循環時間的75％，輔助操作時間僅占25％。從大氣到大氣的更高效的卷對卷真空鍍膜機于1977年銷售。隨著測量技術，控制技術和電子計算機應用的進步，卷對卷真空鍍膜機正朝著這個方向發展高自動化和高可靠性。可以通過滾涂真空涂布機沉積的涂層的厚度范圍為0.01至0.2μm，m，可以在該范圍內選擇，并且一些涂層也可以涂覆多層膜以滿足各種需要。該日本專利提出了一種輥式氣相沉積裝置，其沉積兩種不同的涂層材料。該裝置的真空室（6）分為上室（7），左下室（8）和右下室（9）。在蒸發過程中，由兩個蒸發源（19,23）蒸發的涂層材料（21,25）分別沉積在塑料薄膜（11）上，輝光放電發生器安裝在塑料薄膜不在的一側。氣相沉積（，16）。發生器產生的輝光放電氣體可防止塑料薄膜起皺。使用該裝置，可以在非常薄的塑料薄膜上涂覆無皺的多層薄膜，用于帶和薄膜太陽能電池。該裝置的示意圖如圖1所示。圖1改進的繞線型氣相沉積裝置近年來，高速低溫濺射方法得到迅速發展，并且高熔點金屬的沉積如鉻，鈦，鎢，鉬等是可能的。已經投入使用直徑為1400mm，高度為2,200mm的大型鐘罩式濺射涂布機和長度為mm，寬度為7.6mm的大型串聯濺射涂布機。最近，日本專利提出了一種輥式濺射鍍膜機，它可以鍍兩種非定向涂層材料，并在第一濺射區和第二濺射區之間安裝一個溫度控制裝置（），以加強基板的冷卻。當涂層較厚并且沉積速度較快時，基板不會卷曲和變形。該裝置的示意圖如圖1所示。真空室（1）設有濺射靶（4a，4b）和陽極（14a，14b），兩個靶分別連接到DC電源（5a）。 ，5b）濺射塑料薄膜（8）。輥（11a，11b，11c）具有各自的冷卻溫度。